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      基礎(chǔ)信息Product information
      產(chǎn)品名稱:

      氣氛型可調(diào)高溫加熱裝置

      產(chǎn)品型號:

      廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

      所在地:北京市

      更新日期:2024-10-25

      產(chǎn)品簡介:

      氣氛型可調(diào)高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進行太陽能電池/化合物半導體等的工藝開發(fā)和各種應(yīng)用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合,并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來的高速加熱、冷卻裝置。也可以根據(jù)用戶的需要進行定制。

      產(chǎn)品特性Product characteristics
      品牌華測

      產(chǎn)品介紹:

       中小型高溫爐是工業(yè)生產(chǎn)與科研中常用的設(shè)備之一。目前高溫爐基本均采用硅鉬棒、硅碳棒作為加熱體,升溫速率慢、無法實現(xiàn)變溫環(huán)境模擬,且不同氣氛環(huán)境難以共用。

       氣氛型可調(diào)高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進行太陽能電池/化合物半導體等的工藝開發(fā)和各種應(yīng)用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合,并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起的高速加熱冷卻裝置。也可以根據(jù)用戶的需進行定制。


      氣氛型可調(diào)高溫加熱裝置


      儀器規(guī)格:

      型號

      HCTD-1400

      HCTD-1200A

      HCTD-1200B

      加熱方式

      近紅外橢圓反射

      紅外拋物面反射聚光

      溫度范圍

      RT~1400℃

      RT~1200℃

      熱處理區(qū)

      Φ15mm×長100mm

      Φ50mm×長100mm

      Φ50mm×長150mm

      均熱去(加熱時)

      Φ10mm×長80mm

      Φ40mm×長80mm

      Φ40mm×長120mm

      冷卻方式

      從腔內(nèi)石英噴嘴噴出氣體

      儀器特點:

      設(shè)定從高速加熱到低速加熱的廣泛條件

      多步驟及循環(huán)加熱利用氣體冷卻機構(gòu)的高速氣體淬火

      可以簡單地從電腦上輸入溫度程序設(shè)定和外部信號

      可以在電腦上顯示加熱中的溫度數(shù)據(jù)

      儀器應(yīng)用:

      太陽能電池基板的熱處理

      在氣氛環(huán)境下的熱處理

      各種材料的基礎(chǔ)研究氣氛退火熱處理

      模擬器漸變熱處理

      熱循環(huán)熱沖擊試驗研究

      半導體材料的燒結(jié)和工藝退火爐


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